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電位滴定儀分析氣相二氧化硅中硅羥基的含量

更新時間:2020-05-21瀏覽:2013次

氣相二氧化硅(氣相白炭黑)是極其重要的高科技超微細無機新材料之一,具有多孔性,耐高溫,無毒無味無污染,廣泛應用于醫(yī)藥、化工、食品等領域,硅羥基含量是其產品性能的一個重要指標。本實驗采用氫氧化鈉滴定法,通過CT-1Plus自動電位滴定儀并在分析結束后自動計算出樣品的表面羥基含量。

CT-1Plus自動電位滴定儀?

儀器配置

1. CT-1Plus 自動電位滴定儀

2. 滴定攪拌臺

3. PH 復合電極 PH-101

4. 100mL 滴定杯

5. 電子天平(精確到 0.1mg)

6. 燒杯、量筒、容量瓶等

試劑

滴定劑: 0.0803mol/L 氫氧化鈉標準溶液

溶劑: 乙醇,20%氯化鈉溶液

樣品: 氣相二氧化硅

鹽酸: 0.1mol/L

測定方法

首先配置氫氧化鈉滴定劑,稱取 4.0g 氫氧化鈉溶于 1000mL 純水中,然后用鄰苯二甲酸氫鉀對滴定劑進行標定。

稱取約 1.0g 樣品于滴定杯中,加入 12.5mL 無水乙醇和 37.5mL20%氯化鈉溶液,攪拌均勻,用 0.1 mol/L 的鹽酸調節(jié)溶液 PH 到 4,設置好儀器滴定方法及計算公式,用標定好的滴定劑進行滴定分析,在分析結束后得到結果。

V ´ C ´ 602

結果計算公式:N=

BET ´ m

: V ( ml ; Cmmol/mL;m ( g );602 位換算系數;測量結束儀器會自動計算結果并顯示在屏幕上。

 

儀器參數

終點模式:固定 PH 終點

終點判斷 PH 值:9

終點判斷體積:前 5;后 0.5

預滴定:無

小滴加體積:10uL

攪拌速度:200

大滴加體積:50uL

每滴間隔時間:1000ms

HOGON 電位滴定樣品測定記錄

  樣品來源客戶提供    環(huán)境濕度:55%    環(huán)境溫度:25 ℃ 

?

樣品名稱

氣相二氧化硅

測定次序

進樣量

終點體積

含量結果

1

1.1120

4.7177mL

1.3670 /m2

2

0.9823

4.5169mL

1.4819 /m2

3

0.9808

4.7169mL

1.5499 /m2

分析時長:約 3min

 

平均值:1.4663 /m2

 

 

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